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Chiller process
반도체 산업의 공정 과정 중 웨이퍼 건식 식각 장치와 진공 증착 등의 공정에서 과도한 열이 발생됩니다. 챔버의 내부 및 웨이퍼 주변 온도를 일정하게 유지하도록 공정 효율을 개선하는 열관리 장치를 Chiller라고 합니다. 이 칠러 장치 배관에서의 압력과 웨이퍼 온도 유지를 위해 필요한 coolants 의 레벨 및 전도도 측정이 필요합니다.
반도체 칠러 공정에 적용되는 제품 하이라이트
semiconductor
Wafer Cleaning process
웨이퍼 생산라인의 클리닝 공정에 온도는 제어되어야 합니다.
공정에 따라 다르나, 일반적으로 웨이퍼는 원통형 탱크 안에서 8 ~ 12 번 정도 세척됩니다. 원통형 탱크에 사용되는 용액은 수산화나트륨NaOH3, NaOH2, 불산HF용해물 이며, 온도 범위는 0 .. + 300 ° C (최대 400 ° C)입니다. 탱크는 4 개의 외부 가열 요소로 가열됩니다. 이때 온도는 반드시 제어 되어야 하며 안전 온도 리미터는 안전 관련 스위치를 차단하도록 작동되어야 합니다.
JUMO Safety M STB /STW
JUMO Safety M STB /STW
안전 온도 리미터(STB), 안전 온도 모니터(STW)
· 인증 : DIN EN 14597, SIL3, PLe, UL, DGRL, GL, CE · 2개의 릴레이출력을 경고/리미트 값 알람으로 활용 가능 · 1oo2D(2개의 온도센서를 통한 비교 상태 확인) · USB인터페이스를 통해 손쉽게 사용할 수 있는 셋업 프로그램 제공
Scrubber Process
스크러버는 반도체 제조 공정중에 발생되는 여러 종류의 유해 배기 가스들을 적정 기준치 이하로 처리하여 배출시키는 장치입니다. 세정방식에 따라서 wet(습식),dry(건식),bum(연소식), plasma (플라즈마식) 등으로 구분됩니다. 각 공정 속에서 배관의 압력, PH 측정 등에 JUMO의 제품이 사용됩니다.
반도체 스크러버
